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阴极靶材

阴极靶材技术是溅射设备中最重要的技术。阴极靶材的性能会对产品质量与量产性能产生重要影响。

CNI Technology通过自主磁场模拟，开发、制作并供应符合客户需求工艺的最佳阴极靶材。

椭圆形阴极靶材 : CMC-RT

CNI Technology在韩国首次成功实现了椭圆形阴极靶材量产，可利用圆筒型靶材实现高效溅射。

主要特点
  • 易于维护和高可靠性
  • 溅射角度 : 18˚ ~ 30˚
  • 提供定制的磁力棒，以满足工艺要求
  • Variable 溅镀 tilting angle : 0˚ ~ 60˚
  • 获得专利的双磁体设计，可实现高效率
  • 膜厚均匀度 : < ±5% (@ All layer)
  • 靶材利用率 : ≥ 80%
  • 均匀度 of RTR : ≤ ±3%
椭圆形阴极靶材 : CMC-RT 이미지
平面靶材 : CMC-R

平面靶材e是使用最广泛的产品，可制作不同大小的阴极靶材。

主要特点
  • 靶材 width : ~ 200mm
  • Multi-zone gas supply
  • 靶材 length : ~ 3,000mm
  • Mass flow control for process gas
  • 靶材 erosion efficiency : ≥ 40%
  • RF, DC, Pulsed DC compatible
  • Metal & oxide 靶材
平面靶材 : CMC-R 이미지
Moving magnetron 阴极靶材 : CMC-M

Moving magnetron 阴极靶材是
magnet array凭借servo motor或rotary actuator对靶材背面进行扫描，
从而可以对大面积靶材实现高效溅射。

主要特点
  • High 靶材 erosion efficiency : ≥ 60 %
  • RF, DC compatible
  • Widest range 靶材 available : ≥ 200㎜
  • Cooling path imbedded backing plate for high cooling efficiency
  • Magnet block control by servo motor
  • Imbedded gas supply unit
Moving magnetron 阴极靶材 : CMC-M 이미지
Dual magnetron 阴极靶材 : CMC-D

Dual magnetron 阴极靶材由两个靶材对称构成，可单独对各个靶材施加电压。

主要特点
  • 靶材 erosion efficiency : ≥ 40%
  • Middle frequency power supply
  • 阴极靶材 for reactive sputter
  • Direct cooling on magnet block without magnet corrosion
  • Two magnetron with an asymmetric magnetic design
Dual magnetron 阴极靶材 : CMC-D 이미지
Circular 阴极靶材 : CMC-C

拥有2~14英寸等不同大小的circular 阴极靶材技术。
尤其可消除靶材中心部的re-depo area后，抑制plasma arcing与particle问题。

主要特点
  • 靶材 erosion efficiency : > 40 %
  • 平面靶材 : ≤ 5 %
  • RF, DC, Pulsed DC compatible
  • Metal & oxide 靶材
  • 靶材 size : 4~16 inch
Circular 阴极靶材 : CMC-C 이미지