SPUTTER SYSTEM

끊임없는 열정으로 항상 발전하는 씨앤아이테크놀로지가 되겠습니다.

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Sputter 설비는 다양한 산업에서의 활용도가 높으며, 전극 형성에 유리합니다.
본 장비를 통하여 주전극 및 보조전극을 증착하여 OLED 조명 대면적화에 따른 투명전극(산화물계)의 저항성 때문에 밝기 균일도가 급격하게 감소하는 현상을 해결할 수 있습니다.

주요 특징 - In-line sputtering system
- Substrate size : 200mm x 200mm
- Reactive sputtering : SiO2, TiO2, Nb2O5
- Plasma source : ICP
- Thickness non-uniformity : < ±5%
- Uniformity of RTR : < ±3%
- Alignment : mechanical align(< 50㎛)